Rasterelektronenmikroskopie (REM)

Rasterelektronenmikroskopie (REM) mit EDX-Elementanalyse und Niedervakuumdetektor

In unseren akkreditierten Laboratorien setzen wir die modernsten Rasterelektronenmikroskope (REM) EVO MA 10 von ZEISS zur Lösung Ihrer Aufgabenstellungen ein.

Anwendungsbeispiele für den Einsatz eines REM in der Industrie, Gewerbe und Bauwirtschaft sind u. a.:

  • Faseranalytik (u. a. Asbest, künstliche Mineralfasern)
  • Material- und Werkstoffprüfung
  • Mikrobiologie (Keime, Sporen)
  • Morphologie von Schnitten, Brüchen und Oberflächen
  • Nanopartikel
  • Oberflächenanalytik
  • Schadensanalytik

Für die Probenpräparation kann, je nach Anwendungsfall, ein Plasmaverascher eingesetzt werden. Bei isolierendem Probenmaterial kann dieses mit einer sehr dünnen Goldschicht oder mit Kohlenstoff (Graphit) bedampft werden. Der Aufwand und die Vorteile der Rasterelektronenmikroskopie rechnen sich besonders in der Produktentwicklung und -kontrolle sowie bei der Schadensbetrachtung. Unsere langjährige Expertise in der Interpretation und Bewertung der Ergebnisse rundet unseren Kundenservice ab.

Auch einfache, bildgebende Aufnahmen eines bestimmten Produktes oder Bereiches sind jederzeit möglich und geben oftmals Hilfestellung bei Entscheidungsfindungen. Gutachter, Ingenieurbüros und Sachverständige schätzen unseren Service auf Augenhöhe.

Technische Details

Rasterelektronenmikroskope EVO MA 10 mit LaB6 Kathode, ausgestattet mit:

  • SE Detektor
  • "High Definition“ 5 Flächen BSE Detektor
  • Niedervakuum SE Detektor (10-133 Pa)
  • EDX (Oxford Instruments X-act) AZtec Standard

Auflösung (bei leitfähigen Proben):

  • 2,0 nm bei 30 kV im Hochvakuum (SE Detektor)
  • 3,4 nm bei 30 kV im VP Modus (Niedervakuum) (SE Detektor)
  • 8,0 nm bei 3 kV im Hochvakuum (SE Detektor)
  • 4,0 nm bei 30 kV im Hochvakuum (BSE Detektor)

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